Alvo de placa de titânio

Alvo de placa de titânio

Materil:Gr2,Gr5,Gr7 .Gr12
Espessura: 0,5 mm-10 mm
Tamanho: 1000mm * 2000mm
Superfície: Polonês
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Descrição do produto

 

O Titanium Plate Target é uma peça plana e sólida de titânio metálico, frequentemente usada em diversas aplicações industriais e científicas, particularmente em processos de pulverização catódica. Ele serve como material alvo a partir do qual os átomos de titânio são depositados em um substrato em processos como deposição ou revestimento de filmes finos.

 

O alvo de placa de titânio é uma peça sólida de titânio (ou liga de titânio) de alta pureza-usinada em um formato plano-de placa, que é usada como material de origem em um processo de deposição física de vapor (PVD). Sua função principal é ser fisicamente erodida ou "sputtered" para que seus átomos possam ser transportados e depositados como uma película fina ou revestimento sobre um substrato (o objeto que está sendo revestido).

 

É um componente consumível em sistemas de revestimento industriais e de pesquisa.

 

1.Material: Titânio de alta-pureza (geralmente Ti-6Al-4V ou titânio comercialmente puro, Ti-CP), que oferece excelente resistência à corrosão, alta relação resistência-peso e biocompatibilidade, tornando-o adequado para uma variedade de aplicações, incluindo usos aeroespacial, médico e industrial.

 

2.Grossura: A espessura do alvo da placa de titânio pode variar amplamente dependendo da aplicação, normalmente variando de 0,5 mm a 10 mm ou mais. Em aplicações específicas, como alvos de pulverização catódica para processos de deposição, a espessura pode variar de alguns milímetros a vários centímetros.

 

3.Dimensões (largura x comprimento): Os alvos de placa de titânio podem vir em vários tamanhos, dependendo do processo de fabricação e uso. Os tamanhos comuns variam de placas pequenas (por exemplo, 50 mm x 50 mm) a placas maiores (por exemplo, 1000 mm x 500 mm ou mais). As dimensões exatas serão adaptadas à aplicação específica, seja para pulverização catódica, soldagem ou outros processos.

 

4.Pureza: Os alvos de titânio geralmente vêm em vários graus de pureza. O titânio comercialmente puro (grau 1, 2, 3 ou 4) é comum, embora graus de pureza mais elevados (como liga Ti-6Al-4V ou formas de pureza ainda mais altas) possam ser usados ​​dependendo dos requisitos específicos. A alta pureza garante contaminação mínima em processos como pulverização catódica.

 

5.Densidade: A densidade dos alvos de placa de titânio é normalmente em torno de 4,43 g/cm³ (para titânio puro). A densidade pode variar ligeiramente dependendo da liga específica.

 

6.Acabamento de superfície: As placas de titânio podem ser fabricadas com diversos acabamentos superficiais de acordo com o uso pretendido:

 

7.Superfícies ásperas ou polidas: Os alvos de pulverização catódica geralmente têm uma superfície finamente polida ou levemente texturizada para permitir um desempenho ideal de pulverização catódica.

 

8.Acabamentos recozidos ou{0}laminados a frio: Dependendo da aplicação, as placas de titânio podem ser submetidas a recozimento ou laminação a-frio para atingir as propriedades mecânicas e textura de superfície desejadas.

 

9.Forma: Embora a forma mais comum seja uma placa retangular ou quadrada, os alvos de titânio também podem ser personalizados em formatos circulares ou outros, dependendo do equipamento de deposição ou da aplicação (por exemplo, para pulverização catódica em sistemas de revestimento a vácuo).

 

10.Propriedades Mecânicas:

Propriedades Mecânicas

Dados

Resistência à tracção

Entre 340–900 MPa

Força de rendimento

Aproximadamente 275–930 MPa

Alongamento

10–20%

Dureza

Rockwell B 80-100 depende do grau

 

11.Pureza em aplicações de pulverização catódica: para alvos de pulverização catódica usados ​​em processos-de deposição de filme fino, o alvo de titânio geralmente é especificado com uma pureza de 99,5% a 99,99% para evitar contaminação durante a deposição de filme.

 

12.Resistência à temperatura: o titânio tem excelente desempenho-em altas temperaturas, com a capacidade de manter sua resistência em temperaturas elevadas, tornando-o adequado para uso em ambientes-de altas temperaturas, como indústria aeroespacial e de fabricação de eletrônicos.

 

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